极端紫外线:极端迟到,甚至不能拯救摩尔的法律

为什么这不关你的事


SMC. 为了拯救摩尔定律,不仅半导体行业需要移动到尚未准备好的紫外线紫外线光刻(EUV.),它还必须从电流300mm晶片制造标准到450mm的昂贵开关。

所以,半导体行业咨询的管理合作伙伴所说的Mark Thirsk LINX咨询,在本周说话 战略材料会议 在加利福尼亚州圣克拉拉。

“这些晶圆有多大?” Thirsk问了他的主题演讲。 “好吧,美国的每个人似乎都使用罗德岛作为区域的衡量标准,因此450mm晶圆是1.99纳米罗德岛。只是所以你知道。”

虽然过渡到450mm晶片的晶圆,而且比颠簸 - 仍然可能的止血路径更少,但斯文克斯克表示,450mm不会开始在大卷中使用直到2018年。

这是不幸的,因为450毫米的规模经济 - 更多的芯片筹码 - 将需要保持摩尔的法律。

请记住,虽然摩尔定的法律是普遍称为给定芯片面积的晶体管数量,但摩尔1965年的给定芯片区域中的晶体管数量倍增。 这启发了VLSI先锋 雕刻师 “摩尔定”这句话“摩尔定律”对其进行了强大的每单位成本。

销售从Gordon Moore的Opering 1965纸的人的动画片在电子杂志中

来自Moore的1965纸,“在集成电路上填充更多组件”的前视图。

EUV.应该从“看起来相当不错,但是......”阶段,到Fab地板上,需要与450mm晶圆结婚,以回到Moore的每下坡度。如果EUV失败,则这种光学追赶技巧的高成本作为多地位和新材料将降低Fabs的成本效益。

“我们无法留在历史上假设的趋势中,”雷斯克说。是的,EUV将消除对昂贵的多地位方案的需求,并将Fabs更接近熟悉的每位成本改善坡度,但它不会让我们一直返回趋势。“

摩尔定律的未来,如晶圆尺寸和光刻型变量绘制

在这个DRAM模型中,今天的Fabs - 蓝色虚线 - 将越来越违反Moore的法律

不同类型的筹码将受益于来自EUV - 逻辑芯片的出现诸如CPU的出现量,例如,在大约19nm的工艺节点的光学光刻中,每晶片成本改进,在40%上闭合。

“但在DRAM业务中,”Thirsk说,“EUV不被嘲笑”,成本改善在24纳米和19nm左右之间。虽然这些改进只会说,但是,在19nm节点的大约4%左右,底线的4%可以是一个恰好的块的变化。

并谈到这样的块,450mm晶片 - 至少当他们首次使用时 - 将是闪亮硅的昂贵的平板。世界的Fab人们需要等待完全从成本节省中获益,以至于他们最终会与EUV结合提供。

那是,如果euv出现了 - 有些人 放弃它 already.

从Thirsk的角度来看,“euv是必需的。如果只有我们拥有它 - 但在那里有重大挑战,可能仍然是失败的重大机会。” ®

Bootnote.

除了他的纳米罗德岛区域标准之外,Thirsk还提供了一个 reg-质量 距离度量,参考10纳米作为“一个留胡子 - 第二” - 留着胡须在那段时间内增长的距离。是的,他是英国人。


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